1. 样品状态:粉末,块状,薄膜;
2. 粉末样品要求:500mg以上,体积1ml以上;
3. 截面制备样品要求:长宽厚小于20*20*10mm,如样品可剪裁可大一些(有效切割区域最厚是500um);
4. 平面抛光样品要求:以待抛光区域为中心点,样品直径不超过25mm、厚度0~10mm,(超出部分需要磨平);
5. 样品本身要求:无毒,无放射性,无污染,成分稳定不易挥发,易氧化吸水的需要真空保存,需要特殊位置切割的请附件说明,基于电镜分辨率限制,样品颗粒需要≥100nm才能观察。
6. 送样前需要对样品进行预处理:样品预磨抛,样品要磨平,样品的上下表面要平行,样品抛光面至少用4000目砂纸磨平,在显微镜下看起来光滑,不粗糙。
7. 需注意:样品处理时间一般在2.5h以内(不含冷台升降温时间),超出会导致费用增加!
型号:Leica EM TIC3X、日本电子IB-19520等
氩离子抛光技术/离子研磨CP(Cross section Polisher)用于SEM、EPMA、EBSD等等样品的制备。依靠离子束轰击制备样品剖面,可以获得表面平滑的样品,观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料,而不会对样品造成机械损害。去除损伤层,从而得到高质量样品。而机械研磨抛光制备出来的样品表面粗糙不平、坑坑洼洼、划痕损伤多、界限不清。
1、送样前需要对样品进行预处理:样品预磨抛,样品要磨平,样品的上下表面要平行,样品抛光面至少用4000目砂纸磨平,在显微镜下看起来光滑,不粗糙。
2、 送测样品的尺寸要求:块状样品:以待抛光区域为中心点,样品直径不超过30mm、厚度0~20mm。(超出部分需要磨平)粉末样品:10g以上。
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